Baza technologii


Logo wpisu Źródło wzbudzenia plazmy jarzeniowej

Źródło wzbudzenia plazmy jarzeniowej

Instytut Optyki Stosowanej imienia prof. Maksymiliana Pluty

Opis technologii

W źródle wzbudzenia plazmy jarzeniowej generowanej za pomocą mikrofal lub energii wysokiej częstotliwości wolny koniec cylindrycznej tulei, w której następuje pobudzenie wysokich wartości pola elektrycznego, a także pozostała część tulei są oddzielone od gazu roboczego i otoczone warstwą dielektyka.

Zalety / korzyści z zastosowania technologii

Zastosowanie warstwy dielektryka ogranicza zużycie elektod-anten oraz zapobiega występowaniu efektu „sputtering’u”. Ponadto ułatwia podtrzymanie wyładowania jarzeniowego w wybranym gazie roboczym oraz zwiększa tolerancję plazmy na aerozol pozwalając na analizę oprócz próbek gazowych także próbek ciekłych

Zastosowanie rynkowe

Alternatywa dla klasycznego źródła wzbudzenia plazmy ICP-OES. Możliwość stosowania zarówo w laboratoriach zajmujących się kontolą jakości jak i do celów badawczo-naukowych. Możliwość zastosowania w przemyśle spożywczym, farmaceutycznym, petrochemicznym itd. do przeprowadzania analizy ilościowej lub jakościowej.

Tagi

Branże

Lokalizacja

Dane podmiotu

Nazwa: Instytut Optyki Stosowanej imienia prof. Maksymiliana Pluty

NIP: 5250008790

Kraj: Polska

Typ podmiotu: Instytut naukowo - badawczy

Wielkość: Małe

Forma ochrony

Wynalazek

Poziom gotowości technologicznej

None

Forma komercjalizacji

Umowa produkcyjna (podwykonawstwo)

Dodatkowe informacje

Inne podmioty/osoby nie posiadają praw własności do tej technologii.
Posiadający technologię zapewnia doradztwo związane z wdrożeniem.

Dodano 13 maja 2021 17:33

Wróć na stronę "Bazy"