Baza technologii

Sposób wytwarzania zasadniczo czystych nanocząstek w układzie przepływowym, nanocząstki otrzymane tym sposobem oraz ich zastosowanie
Uniwersytet Warszawski
Opis technologii / usługi
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania zasadniczo czystych nanocząstek w układzie przepływowym. Twórcy wynalazku opracowali sposób wytwarzania zasadniczo czystych nanocząstek, który umożliwia kontrolę wielkości otrzymywanych nanocząstek i jednocześnie eliminuje konieczność stosowania stabilizatorów, w szczególności stabilizatorów w postaci substancji powierzchniowo czynnych i innych cząsteczek organicznych. Ponadto sposób ten prowadzi do otrzymywania nanocząstek w postaci koloidów o wysokim stężeniu nanocząstek, które charakteryzują się wysoką stabilnością. Sposób ten umożliwia ponadto wytwarzanie nanocząstek na dużą skalę.
Zalety / korzyści z zastosowania technologii
1. Kontrola wielkości nanocząstek. Możliwość otrzymania nanocząstek o pożądanej wielkości. 2. Uzyskanie nanocząstek o wysokiej czystości powierzchni, bez zaadsorbowanych stabilizatorów, w szczególności stabilizatorów w postaci substancji powierzchniowo czynnych i innych cząsteczek organicznych. Brak konieczności oczyszczenia powierzchni otrzymanych nanocząstek skomplikowanymi metodami elektrochemicznymi, często zmieniającymi ich właściwości. Oszczędność energii oraz czasu. Możliwość zastosowania ich jako bardzo efektywne katalizatory heteroorganiczne. 3. Uzyskanie nanocząstek w postaci koloidów o wysokim stężeniu nanocząstek charakteryzujących się dużą stabilnością (nawet dłużej niż 4 miesiące). Wariant produkcji nanocząstek na dużą skalę. Możliwość użycia nanocząstek w dogodnym dla nas czasie.
Zastosowanie rynkowe
Przedstawiony sposób wytwarzania zasadniczo czystych nanocząstek można wykorzystaćw obszarze farmacji (istnieje możliwość modyfikacji powierzchni nanocząstek np. substancjami leczniczymi), elektronice (jako tusze do nadrukowywania na specyficznych elementach), jako materiał do badań SERS, w ogniwach paliwowych jako selektywne katalizatory redukcji tlenu.
Tagi
Branże
Lokalizacja
Dane podmiotu
Nazwa: Uniwersytet Warszawski
NIP: 5250011266
Kraj: Polska