Baza technologii

Sposób wytwarzania nanorurek SiO2 zawierających nanoziarna palladu
Instytut Tele- i Radiotechniczny
Opis technologii / usługi
Sposób charakteryzuje się tym, że w pierwszym etapie metodą PVD wytwarza się warstwę kompozytową węglowo-palladową na podłożu krzemowym o dowolnej orientacji i typie domieszkowania. A następnie w etapie drugim, warstwa ta poddawana jest modyfikacji w procesie chemicznego osadzania z par – CVD, wykorzystując jako czynniki modyfikujące ksylen i temperaturę. W następnym, trzecim etapie, tak przygotowana warstwa jest wygrzewana w warunkach utleniających w temperaturze z zakresu powyżej 700 C. W wyniku 3-stopniowego procesu syntezowane są nanorurki SiO2, zawierające pojedyncze nanokrystality Pd, ułożone wzdłuż jednowymiarowej struktury nanorurki. Patent stanowi podstawę do opracowania nowej technologii wytwarzania warstw kompozytowych węglowo-palladowych na podłożu krzemowym o dowolnej orientacji i typie domieszkowania.
Zalety / korzyści z zastosowania technologii
Zaletą technologii jest możliwość wytwarzania warstw kompozytowych węglowo palladowych na podłożu krzemowym o dowolnej orientacji i typie domieszkowania.
Zastosowanie rynkowe
Technologia może znaleźć zastosowanie, w jednowymiarowych obiektach przewodzących w urządzeniach optoelektronicznych, jako fotokatalizatory, sensory optyczne, chemiczne i w innych urządzeniach elektronicznych. Wynalazek opisuje produkcję bardzo atrakcyjnego materiału, który z powodu unikatowych właściwości fizyko-chemicznych znajduje zastosowania np. W sensorach biomedycznych, urządzeniach optoelektronicznych i nanoelektronicznych, tranzystorach polowych czy urządzeniach z emisją polową, np. Diodach elektroluminescencyjnych.
Tagi
Branże
Lokalizacja
Dane podmiotu
Nazwa: Instytut Tele- i Radiotechniczny
NIP: 5250008850