Baza technologii

Układ do pomiaru zmian współczynnika załamania i dwójłomności wywołanych efektami nieliniowymi w mikroobszarach materiałów optycznych
Instytut Optyki Stosowanej imienia prof. Maksymiliana Pluty
Opis technologii / usługi
Przedmiotem patentu jest nowy układ do pomiaru zmian współczynnika załamania i dwójłomności materiałów, wywołanych efektami nieliniowymi powstałymi w wyniku oddziaływania światła laserowego dużej mocy z materiałami. Pomiar parametrów optycznych następuje w mikroobszarach materiałów optycznych. Technologia pomiarowa przeznaczona jest do stosowania w metrologii parametrów optycznych materiałów, spektroskopii, metrologii dyspersji opóźnienia fazowego oraz badań zjawisk nieliniowych w materiałach optycznych. Układ pomiarowy wykorzystuje laser femtosekundowy, którego impulsy dużej mocy dzielone są na dwie części. Pierwsza część impulsu przechodząc przez badany materiał wywołuje w nim zmiany jego parametrów optycznych, natomiast druga część impulsu, dzięki układowi synchronizacji tworzy w interferometrze VAWI interferogram obszaru, dokładnie w miejscu i czasie, w którym pierwsza część impulsu znajduje się w badanym obszarze. Technologia pomiarowa pozwala mierzyć chwilowe zmiany parametrów optycznych materiałów w mikroobszarach.
Zalety / korzyści z zastosowania technologii
Technologia jest obecnie jedyną dostępną na rynku technologią pomiarową, która pozwala mierzyć zmiany parametrów optycznych materiałów wywołanych oddziaływaniem światła laserowego dużej mocy z materią, w mikroobszarach, dokładnie w miejscu i czasie oddziaływania impulsu z materią.
Zastosowanie rynkowe
Pomiar parametrów optycznych nowych materiałów w biotechnologii i farmacji, badania oddziaływania i wpływu światła laserowego dużej mocy o wybranych długościach fal na procesy biochemiczne i chemiczne w syntezie środków farmakologicznych.